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EKSMA硒化镓晶体GaSe-10H1

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产品介绍

EKSMA硒化镓晶体GaSe-10H1 是立陶宛EKSMA Optics公司生产的一种高性能非线性光学晶体。

用于产生太赫兹THz的GaSe(硒化镓)晶体显示出高达41 THz的大带宽。GaSe是负单轴层状半导体,具有62 m点组的六边形结构,在300 K时的直接带隙为2.2eV。GaSe晶体具有高损伤阈值,较大的非线性光学系数(54 pm / V),合适的透明范围和低吸收系数,这使其成为宽带中红外电磁波产生的替代解决方案。由于使用低于20 fs的激光源产生和检测宽带太赫兹,因此与使用薄的ZnTe晶体相比,GaSe发射器-探测器系统的性能可达到相当甚至更好的结果。为了实现频率选择性太赫兹波的产生和检测系统,应使用适当厚度的GaSe晶体。

性能特点

高性能:高非线性系数、宽透明范围和低吸收系数,使其在非线性光学应用中表现卓绝。

灵活性:支持太赫兹波的频率选择性控制,适用于多种光学系统。

可靠性:高损伤阈值和稳定的物理性质,确保长期使用性能。

技术参数

产地

立陶宛

晶体结构

GaSe(硒化镓)是负单轴层状半导体,具有六边形结构(62m点群),由镓(Ga)和硒(Se)元素组成,属于二维材料。其层状结构赋予它独特的电学和光学性质,适合用于光电子学和光电子器件领域。

宽带太赫兹产生

GaSe-10H1晶体可产生高达41 THz的宽带太赫兹辐射,适用于太赫兹光谱、成像和通信等领域。

高非线性系数

非线性光学系数达54 pm/V,远高于许多传统非线性晶体(如ZnTe),使其在光学频率转换中表现优异。

宽透明范围

在红外光谱范围内透明,适合中红外波段的光学混频和频率转换。

低吸收系数

超低吸收系数减少了光在传播过程中的损耗,提高了能量转换效率。

高损伤阈值

抗损伤能力强,可承受高功率激光输入,适用于高强度光学应用。

相对密度

5.03 g/cm³

熔点

(960±10)℃

硬度

莫氏硬度2,质地较软,易碎,需小心操作。

解理面

沿(001)平面解理,限制了特定相位匹配角的切割可能性。

尺寸

直径7 mm × 厚度0.01 mm(Z切)

表面质量

解理面(Cleaved)

安装方式

预装在25.4 mm直径环形支架中,便于集成到光学系统中。

定制选项

支持厚度、切割方向和表面镀膜的定制,以满足特定应用需求。

产品应用

太赫兹技术

太赫兹源:用于产生宽带太赫兹辐射,支持太赫兹光谱分析、成像和高速通信。

太赫兹探测器:与发射器配合,实现太赫兹波的高效探测。

频率选择性控制:通过调整晶体厚度,可实现对太赫兹波的频率选择性产生和检测。

激光技术

CO₂激光器倍频:将CO₂激光器的10.6 μm辐射转换为5.3 μm可见光,提高激光应用灵活性。

中红外波段光学混频:支持5.5 μm至18.0 μm范围内的不同频率产生,适用于中红外激光系统。

光学参量振荡(OPO):通过非线性光学过程,将激光波长下转换至中红外波段,扩展激光应用范围。

光电子学

红外光电探测器:利用其在红外光谱范围内的透明性,开发高性能红外探测器。

光学调制器:用于光信号的调制和处理,支持高速光通信和光计算。

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