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高功率型号系列的 266 nm 激光器基于频率转换，更准确地说，是基于非线性光学将 1064 nm 基频波长增至四倍。基频由带有激光二极管 (808 nm) 的微芯片泵浦产生。芯片本身由 Nd:YAG 晶体和可饱和吸收体 (Cr:YAG) 组成。红外激光束依次通过两个转换晶体，最终可以发射 266 nm。该波长具有约 4.6 eV 的高光子能量。这使其非常适合半导体或其他需要高能量进行激发、电离或升华的材料的荧光或光致发光分析。这种类型的激光器用于烧蚀和质谱分析。
- 即插即用：这不仅简化了硬件安装过程，还提高了系统的灵活性和可扩展性。一个用户友好的即插即用系统应确保硬件识别的准确性、资源分配的合理性以及驱动程序的兼容性。
- 紧凑的设计意味着系统在保持强大功能的同时，尽可能地减小了体积和重量。这有助于节省空间，提高系统的便携性和易用性。
- 提供5种不同波长可供选择，可以为用户提供更多的灵活性和适应性。
- 在被动调Q中，不需要外部触发器，而是依靠光学材料自身的特性来实现脉冲生成。这种技术可以产生高能量的瞬时短激光脉冲，适用于科研与工业领域的多种应用。
- 闭环控制是一种有效的稳定输出功率的方法。通过实时监测输出功率，并将其与设定值进行比较，然后调整输入参数以消除误差，从而实现输出功率的稳定控制。
- 内部触发器通常是由设备内部的电路或软件产生的触发信号，用于控制设备的运行或触发某种操作。而外部触发器则是由外部设备或信号源产生的触发信号，用于与设备进行同步或控制设备的操作。提供内部和外部触发器选项，可以为用户提供更多的灵活性和同步性。
- 按需单次拍摄和突发模式是摄影或激光设备中常见的两种操作模式。单次拍摄模式允许用户每次触发设备时只进行一次拍摄或发射操作，适用于需要准确控制拍摄次数的场景。而突发模式则允许设备在连续触发信号下以高速率进行多次拍摄或发射操作，适用于需要快速捕捉多个瞬间或进行连续测量的场景。
- 提供OEM或独立选项，可以满足不同客户的需求和销售渠道。
同步模块（上升时间 < 2 ns）
手动快门或电子光束阻断器
手动或电动波长开关 266 nm / 532 nm
外部望远镜（即 M=5）
手动或电动衰减器
独立系统（包括按键开关、散热器和手动快门；符合 CDRH 标准）
产地：德国
波长：266 nm
空间模式：TEM00
光束质量 M²：< 1.5
光束发散度（全角）：< 3.0 mrad
椭圆度：< 1.5 : 1
腰部直径：800 ± 200 μm（位于激光头内约 110mm 处）
光束直径：800 ± 200 μm（激光孔径处）
峰值功率：> 45 kW @ 1 – 100 Hz
脉冲能量：> 50 μJ @ 1 – 100 Hz
脉冲重复率：1 – 100 Hz
脉冲宽度（FWHM）：< 1.1 ns
偏振方向和纯度：> 100:1，垂直
长期脉冲能量稳定性（6 Stunden）：< ± 3 %
脉冲间稳定性：< 1 % rms
光输出：自由光束
激光等级：4 / IV
剩余发射：< 0.5 mW @ 1064 nm（3R 类）
< 0.1 mW @ 532 nm（2 类）
电耗：< 70 W
线路电压：100 – 240 V AC（50-60 Hz）或 24 V DC
预热时间：< 15 分钟
工作温度：18 – 38 °C
激光头尺寸：217 x 65 x 45 mm
接口：RS 232，USB
烧蚀
荧光
质谱
苏州长显