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产品介绍
PGL在光栅制造、薄膜光学镀膜、反应离子刻蚀、光学计量以及大型光学元件的清洗、检测和处理方面拥有丰富的专业知识。所有这些工艺对于用于光谱光束合成的高性能MLD衍射光栅至关重要。
PGL独特的光栅设计和专有的薄膜镀膜工艺使我们能够生产出具有高衍射效率、宽光谱带宽和可制造性的SBC光栅。
我们始终致力于创新。PGL率先在具有高损伤阈值、低损耗的二氧化硅-氧化铪薄膜镀膜上展示了全二氧化硅齿光栅。这些新一代光栅将满足未来强度大于1 MW/cm²的高能激光（HEL）系统的需求。
性能特点
- 高非偏振衍射效率
- 好的衍射波前误差
- 高激光损伤阈值 (LIDT)
- 低吸收率，避免加热效应
- 即使尺寸大于 150 毫米，也具有良好的均匀性
技术参数
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产地 |
美国 |
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光栅类型 |
多层介质（MLD）反射式 |
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衍射效率 |
典型值 96 – 99% |
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带宽 |
> 50 nm（典型值 1030 – 1080 nm） |
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偏振 |
非偏振（TE 和 TM） |
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衍射波前误差 |
< λ / 4（尺寸相关） |
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激光损伤阈值 |
100's kW / cm2 |
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镀膜 |
二氧化硅-氧化铪薄膜 |
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标准尺寸 |
50 mm圆形 x 15 mm |
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50 mm x 50 mm x 15 mm |
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100 mm x 100 mm x 15 mm |
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150 mm x 50 mm x 25 mm |
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* 可定制尺寸，包括大于 150 mm的尺寸 |
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满足激光强度 |
大于1 MW/cm² |
产品应用
高能激光器（HEL）光谱光束合成用于定向能量
苏州长显